特許
J-GLOBAL ID:200903088944014063
被処理物供給装置及び被処理物供給方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-172603
公開番号(公開出願番号):特開2006-351619
出願日: 2005年06月13日
公開日(公表日): 2006年12月28日
要約:
【課題】被処理物が収納されている収容器内を諸望の気体雰囲気に保つことができるとともに、より少ない工程で処理装置内に被処理物を供給することができる被処理物供給装置及び被処理物供給方法を提供する。【解決手段】被処理物供給装置20は、遮蔽壁11を備えた処理装置10に隣接して設けられ、搬送されてきた収容器40を受け取って前記収容器内に収納されている被処理物を前記処理装置内に供給するものであって、前記処理装置10に取り付け可能な本体部21と、該本体部21に設けられるとともに前記収容器40を配置可能な載置台30、31と、該載置台30、31に前記収容器40が配置されたことを検出して前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換する気体置換機構60を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
遮蔽壁を備えた処理装置に隣接して設けられ、搬送されてきた収容器を受け取って前記収容器内に収納されている被処理物を前記処理装置内に供給する被処理物供給装置であって、
前記処理装置に取り付け可能な本体部と、該本体部に設けられるとともに前記収容器を配置可能な載置台と、該載置台に前記収容器が配置されたことを検出して前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換する気体置換機構と、が備えられたことを特徴とする被処理物供給装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/68 A
, B65G49/00 A
Fターム (18件):
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031JA10
, 5F031JA22
, 5F031JA47
, 5F031KA03
, 5F031KA20
, 5F031LA15
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA32
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA10
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-311822
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
局所清浄化法及び局所清浄化加工処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-116567
出願人:経済産業省産業技術総合研究所長, 原史朗
審査官引用 (3件)
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