特許

J-GLOBAL ID：200903088988187160

絶縁膜、化合物、膜形成用組成物及び電子デバイス

発明者： 渡邉 康史 ,  渡辺 克之
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-356887
公開番号（公開出願番号）：特開2007-161784
出願日： 2005年12月09日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜、さらには該絶縁膜の形成に用いる膜形成用組成物および該絶縁膜を有する電子デバイス等を提供する。【解決手段】カゴ型構造を有する化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物を用いて形成され、ガラス転移温度が300°C以上であることを特徴とする絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス、カゴ型構造を有するモノマーの重合体でありガラス転移温度が200°C以上であることを特徴とする化合物、該化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて形成したガラス転移温度が300°C以上である絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カゴ型構造を有する化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物を用いて形成され、ガラス転移温度が300°C以上であることを特徴とする絶縁膜。

IPC (11件)：

C09D 5/25 ,  H01L 21/312 ,  H01L 23/522 ,  H01L 21/768 ,  C09D 201/00 ,  C09D 157/00 ,  C09D 149/00 ,  C09D 147/00 ,  C09D 165/00 ,  C08F 38/00 ,  C08F 10/00

FI (10件)：

C09D5/25 ,  H01L21/312 A ,  H01L21/90 S ,  C09D201/00 ,  C09D157/00 ,  C09D149/00 ,  C09D147/00 ,  C09D165/00 ,  C08F38/00 ,  C08F10/00

Fターム (37件)：

4J038CM00 ,  4J038CN00 ,  4J038DN001 ,  4J038FA01 ,  4J038GA01 ,  4J038MA13 ,  4J038NA11 ,  4J038NA14 ,  4J038NA21 ,  4J038PB09 ,  4J100AA15P ,  4J100AB15P ,  4J100AC11P ,  4J100AT05P ,  4J100AT13P ,  4J100AT20P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA34P ,  4J100BA72P ,  4J100BA77P ,  4J100BB03P ,  4J100BB07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100JA44 ,  5F033RR21 ,  5F033SS22 ,  5F033WW03 ,  5F033WW04 ,  5F033XX24 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許6380347号明細書
  
• 米国特許5965679号明細書
  

審査官引用 (4件)

• 有機組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-560082   出願人：ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
• アダマンタン樹脂及びそれを用いる絶縁膜形成用塗布液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-374028   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開平1-106834
  
• 特開平1-102502