特許

J-GLOBAL ID：200903089093895394

ナノホール構造体及びその製造方法、スタンパ及びその製造方法、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに、磁気記録装置及び磁気記録方法

発明者： 伊藤 健一 ,  中尾 宏 ,  菊地 英幸 ,  守部 峰生 ,  益田 秀樹
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (1件)： 廣田 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-061664
公開番号（公開出願番号）：特開2005-305634
出願日： 2005年03月04日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】 磁気ヘッドの書込み電流を増やすことなく高密度記録・高速記録が可能で大容量であり、オーバーライト特性に優れ、均一な特性を有し、特にクロスリードやクロスライト等の問題がなく、極めて高品質な磁気記録媒体等の提供。 【解決手段】 本発明のナノホール構造体は、金属基材に、ナノホールが規則的に配列してなるナノホール列が一定間隔で配列してなる。隣接するナノホールの間隔の変動係数が10%以下である態様等が好ましい。本発明の磁気記録媒体は、基板上に、該基板面に対し略直交する方向にナノホールが複数形成された多孔質層を有し、該ナノホールの内部に磁性材料を有してなり、該多孔質層が本発明のナノホール構造体である。ナノホールの内部に、軟磁性層と強磁性層とを前記基板側からこの順に有し、該強磁性層の厚みが該軟磁性層の厚み以下である態様等が好ましい。【選択図】 図11

請求項（抜粋）：

金属基材に、ナノホールが規則的に配列してなるナノホール列が一定間隔で配列してなることを特徴とするナノホール構造体。

IPC (6件)：

B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  G11B5/65 ,  G11B5/667 ,  G11B5/84 ,  G11B5/858

FI (6件)：

B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  G11B5/65 ,  G11B5/667 ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/858

Fターム (10件)：

5D006BB07 ,  5D006BB08 ,  5D006BB09 ,  5D006CA03 ,  5D006EA02 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112BA06 ,  5D112GA29

引用特許：

出願人引用 (7件)

• 垂直磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-334321   出願人：富士通株式会社
• 特開昭52-134706号公報
  
• 垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-095898   出願人：富士通株式会社
• 磁気記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-296766   出願人：キヤノン株式会社
• 記録媒体、記録媒体の製造方法、および記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-303088   出願人：株式会社東芝
• 記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-358458   出願人：株式会社東芝
• 原盤作製装置及び方法、並びにディスク作製装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-099767   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (4件)

• 構造体、構造体の製造方法、発光デバイス、および発光デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-123803   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平3-008108
  
• 特開平3-008108
  
• 細孔を有する構造体の製造方法、並びに該製造方法により製造される構造体及び該構造体を用いた構造体デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-253821   出願人：キヤノン株式会社