特許
J-GLOBAL ID：200903089240680684
複数の露光ビームによるリソグラフィ・ツールのための方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 白江 克則
, 吉田 裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-506401
公開番号（公開出願番号）：特表2008-536331
出願日： 2005年04月19日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
本発明の一観点は、複数の露光ビームを同時に用いて、電磁放射に感光する層により少なくとも部分的に被覆された被加工物をパターン形成する方法を含む。例示的な一例では、任意のビームの基準ビームに対する実際の位置が企図された位置と異なっているかどうかが判定される。誤って配置されたビームがフィーチャのエッジにプリントされる場合には、そのビームに対する露光ドーズ量の調節が実施される。本発明の他の観点は、詳細な記述、図面及び特許請求の範囲において示される。
請求項（抜粋）：
電磁放射に感光する層により少なくとも部分的に被覆された被加工物を、複数の露光ビームを同時に用いてパターン形成する方法において、
前記被加工物の前記パターンにおけるCD誤差を低減させるために、前記複数の露光ビームの少なくとも1つのドーズ量を調節することによって、隣接する露光ビーム間の距離の公称値からのずれを補償する段階を含む、被加工物をパターン形成する方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G03F 1/08
, H01J 9/02
H01L21/30 541E
, H01L21/30 541W
, G03F7/20 521
, G03F1/08 C
, H01J9/02 F
2H095BA08
, 2H095BB10
, 2H095BB32
, 2H095BB33
, 5C027AA01
, 5F056AA02
, 5F056AA33
, 5F056CD15
, 5F056CD18
