特許

J-GLOBAL ID：200903089243433955

化学増幅レジスト材料用光酸発生剤、及び該光酸発生剤を含有するレジスト材料、並びにこれを用いたパターン形成方法

発明者： 大澤 洋一 ,  竹村 勝也 ,  関 明寛
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-160575
公開番号（公開出願番号）：特開2007-328227
出願日： 2006年06月09日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】解像性、焦点余裕度に優れ、PEDによる線幅変動、形状劣化が少なく微細加工に適したレジスト材料。【解決手段】式(1)で示される化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤。(Rは水素、フッ素、塩素、ニトロ基、アルキル基又はアルコキシ基。nは0〜1、mは1〜2、rは0〜4の整数、r’は0〜5の整数。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤。

IPC (6件)：

G03F 7/004 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F7/004 503A ,  C09K3/00 K ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 511 ,  H01L21/30 502R

Fターム (24件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025EA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA33 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA05 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 米国特許第6004724号明細書
  
• 化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-071473   出願人：信越化学工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料用の光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-205698   出願人：信越化学工業株式会社
• 化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-027861   出願人：信越化学工業株式会社