特許
J-GLOBAL ID：200903097802079930

化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者：
大澤 洋一

大澤 洋一 について

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小林 克浩

小林 克浩 について

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竹村 勝也

竹村 勝也 について

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土谷 純司

土谷 純司 について

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前田 和規

前田 和規 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-027861
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004551
出願日： 2003年02月05日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【解決手段】下記式(1)で示される化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤。 (Rは、H、F、Cl、アルキル基、又はアルコキシ基、nは0又は1、mは3〜11、rは0〜4。G’及びG’’はそれぞれ硫黄原子あるいは-CH=CH-を示すが、同時に硫黄原子を示すことはない。)【効果】本発明のO-アリールスルホニルオキシム化合物の光酸発生剤及びそれを用いた化学増幅レジスト材料は、解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れ、微細加工に適した高解像性を有し、特に遠紫外線リソグラフィーにおいて大いに威力を発揮する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示される化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤。
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  C09K3/00 K ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AB76 ,  4H006AB80
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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