特許
J-GLOBAL ID：200903089300960258

反射マスクとその製造方法及び露光装置

発明者：
石山 若菜

石山 若菜 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 渡部 温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-104437
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299227
出願日： 2001年04月03日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：
【要約】【課題】 吸収体層の厚さを薄くしてウエハ上に転写されるパタンへの影響を小さくできる反射マスクとその製造方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 本発明に係る反射マスク23は、反射マスク基板2と、この基板2上に形成された、X線の使用波長域で高い反射率を有する多層膜4と、この多層膜上に形成された、X線の使用波長域における吸収率の高い物質からなり且つ所定のパタンを有する吸収体層6と、を具備する。前記吸収体層6の表面には所定の粗さが形成されている。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板上に形成された、X線の使用波長域で高い反射率を有する多層膜と、この多層膜上に形成された、X線の使用波長域における吸収率の高い物質からなり且つ所定のパタンを有する吸収体層と、を具備し、前記吸収体層の表面に所定の粗さが形成されていることを特徴とする反射マスク。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 ,  G21K 1/06
FI (7件)：
G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 X ,  G21K 1/06 C ,  G21K 1/06 D ,  H01L 21/30 531 M
Fターム (13件)：
2H095BA10 ,  2H095BB16 ,  2H095BC08 ,  2H095BC09 ,  2H095BC11 ,  2H097CA15 ,  2H097GB02 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5F046GD01 ,  5F046GD10 ,  5F046GD14 ,  5F046GD15
引用特許：
審査官引用 (5件)
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