特許
J-GLOBAL ID：200903089336258878
微粉末シリカの表面処理方法およびポリオルガノシロキサン組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-337532
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137530
出願日： 2001年11月02日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 ポリオルガノシロキサンと微粉末シリカを混練する工程で、シラザン化合物によって微粉末シリカの表面のシラノール基を完全にシリル化する方法;および微粉末シリカ表面のシラノール基を除去したポリオルガノシロキサン組成物を提供する。【解決手段】 ポリオルガノシロキサンと、微粉末シリカとの混合物を、混練しながら、シラザン化合物により該微粉末シリカの表面を処理する方法であって、該シラザン化合物および/またはその加水分解生成物を、還流条件下で微粉末シリカの表面処理に供することを特徴とする、微粉末シリカの表面処理方法;およびそのようにして得られたポリオルガノシロキサンおよびシラザン処理微粉末シリカを含むポリオルガノシロキサン組成物。
請求項（抜粋）：
ケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基を1分子中に少なくとも2個有するポリオルガノシロキサンと、微粉末シリカとの混合物を混練しながら、有機ケイ素化合物により該微粉末シリカの表面をシリル化処理する方法であって、該有機ケイ素化合物および/またはその加水分解生成物を、系外に逸出しない条件下で微粉末シリカ表面処理に供することを特徴とする、微粉末シリカの表面処理方法。
IPC (5件)：
C01B 33/18
, C08K 3/10
, C08K 9/06
, C08L 83/05
, C08L 83/07
C01B 33/18 C
, C08K 3/10
, C08K 9/06
, C08L 83/05
, C08L 83/07
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072GG03
, 4G072HH14
, 4G072HH28
, 4G072QQ06
, 4G072RR05
, 4G072RR07
, 4G072UU08
, 4J002CP042
, 4J002CP131
, 4J002DA117
, 4J002DD077
, 4J002DJ016
, 4J002FB146
