特許

J-GLOBAL ID：200903089429667778

シリカエアロゲル膜の製造方法、反射防止膜及び光学素子

発明者： 鈴木 峰太 ,  塩川 孝紳 ,  山田 和広 ,  中山 寛之 ,  山口 日出樹 ,  丸田 彩子
出願人/特許権者： HOYA株式会社 ,  株式会社KRI
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-220339
公開番号（公開出願番号）：特開2009-075583
出願日： 2008年08月28日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：

【課題】 低屈折率及び優れた耐擦傷性を有するシリカエアロゲル膜を効率良く製造する方法、かかるシリカエアロゲル膜からなる反射防止膜、及びかかる反射防止膜を有する光学素子を提供する。【解決手段】 アルコキシシランを塩基性触媒の存在下で加水分解・重合してアルカリ性ゾルを調製し、これに酸性触媒を添加してさらに加水分解・重合することにより第一の酸性ゾルを調製し、アルコキシシランを酸性触媒の存在下で加水分解・重合することにより第二の酸性ゾルを調製し、第一及び第二の酸性ゾルの混合物を基材に塗布し、乾燥することによるシリカエアロゲル膜の製造方法。 【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

アルコキシシランを塩基性触媒の存在下で加水分解・重合してアルカリ性ゾルを調製し、これに酸性触媒を添加してさらに加水分解・重合することにより第一の酸性ゾルを調製し、アルコキシシランを酸性触媒の存在下で加水分解・重合することにより第二の酸性ゾルを調製し、前記第一及び第二の酸性ゾルを混合し、得られた混合ゾルを基材に塗布し、乾燥することを特徴とするシリカエアロゲル膜の製造方法。

IPC (1件)：

G02B 1/11

FI (1件)：

G02B1/10 A

Fターム (4件)：

2K009AA02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許5,948,482号
  

審査官引用 (4件)

• 屈折率傾斜多層薄膜構造体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-238723   出願人：王子製紙株式会社
• シリカエアロゲル膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-315049   出願人：ペンタックス株式会社
• 無機質組成物の製造方法、積層体の製造方法及びペン入力パネル用保護材料の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-073147   出願人：積水化学工業株式会社
• シリカエアロゲル膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-125593   出願人：ペンタックス株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Abrasion-resistant solgel antireflective films with a high laser-induced damage threshold for inerti