特許

J-GLOBAL ID：200903089448871971

電子ビーム露光マスクおよびその製造方法ならびに電子ビーム露光装置

発明者： 鈴木 克美
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-072398
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267207
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】 生産性を高めるとともに、製造コストおよびメンテナンスコストの低廉化を図る。【解決手段】 電子ビームをビーム被照射基板方向に導くための貫通口2aを有するマスク本体2と、このマスク本体2の電子ビーム照射側に保護薄膜4を介して積層され開口部2aに連通する電子ビーム透過孔形成用の貫通孔3aを有するパターン孔形成用薄膜3とを備え、このパターン形成用薄膜3における貫通孔3aの内面を含む電子ビーム照射領域に対応する部位に、チャージアップ抑制用の導電性薄膜5を積層するとともに、この導電性薄膜5を覆うような誘電体薄膜6を積層した構成としてある。

請求項（抜粋）：

電子ビーム導入口形成用の開口部を有するマスク本体と、このマスク本体の電子ビーム照射側に保護薄膜を介して積層され、前記開口部に連通する電子ビーム透過孔形成用の貫通孔を有するパターン孔形成用薄膜とを備え、このパターン孔形成用薄膜における貫通孔の内面を含む電子ビーム照射領域に対応する部位に、チャージアップ抑制用の導電性薄膜を積層するとともに、この導電性薄膜を覆うような誘電体薄膜を積層したことを特徴とする電子ビーム露光マスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (16件)：

2H095BA08 ,  2H095BB30 ,  2H095BC16 ,  2H095BC19 ,  2H095BC24 ,  2H097BA04 ,  2H097CA17 ,  2H097GB02 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5C034BB05 ,  5F056AA04 ,  5F056AA06 ,  5F056CC04 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 透過マスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-028308   出願人：富士通株式会社
• パターン投影用原版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-014089   出願人：株式会社ニコン