特許

J-GLOBAL ID：200903089500789480

熱処理装置

発明者： 伊藤 吉積 ,  赤堀 哲雄 ,  稲葉 善幸 ,  中川 正弘 ,  伊藤 淳
出願人/特許権者： 株式会社ノリタケカンパニーリミテド ,  九州ノリタケ株式会社
代理人 (1件)： 池田 治幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301983
公開番号（公開出願番号）：特開平11-142061
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 基板を複数の加熱室へ順次間欠送りして基板の温度を略均一に維持しながら変化させる熱処理装置において、各加熱室毎の温度制御が速やかに行われるようにして、間欠送りするサイクルタイムを短くする。【解決手段】 基板62と干渉しない範囲でシャッタ194を挟むように各加熱室の境界部分に一対の耐熱ガラス製板から構成される下側断熱壁192が設けられていることから、下側断熱壁192の耐熱ガラス製板自身と耐熱ガラス製板相互間に形成される空気層による断熱作用により、各加熱室が隣接する加熱室から受ける熱影響が可及的に低減させられる。これにより、基板62を間欠送りしてシャッタ194を閉じた後、制御装置により各加熱室毎に所定温度に速やかに制御できるようになり、基板62を間欠送りするサイクルタイムを短くして全体の処理時間を短縮できるようになる。

請求項（抜粋）：

所定のワークを一方向へ搬送する過程で該ワークの温度を略均一に維持しながら変化させるトンネル状の熱処理装置であって、前記一方向に並んで設定された複数の加熱区分毎に加熱温度を独立に制御し、該複数の加熱区分へ順次送られる前記ワークの温度を異なる温度に変化させる温度制御装置と、前記ワークを前記複数の加熱区分へ順次間欠送りする搬送装置と、前記一方向において前記複数の加熱区分の境界部分に配設され、往復移動させられることにより該複数の加熱区分を相互に遮蔽する遮蔽位置と、前記搬送装置によって搬送される前記ワークとの干渉を避ける退避位置とに位置決めされる平板状のシャッタを備えているシャッタ装置と、前記搬送装置によって搬送される前記ワークと干渉しない範囲で、前記シャッタを挟むように前記複数の加熱区分の境界部分に位置固定に設けられた一対の断熱壁とを有することを特徴とする熱処理装置。

IPC (5件)：

F27B 9/40 ,  B01J 19/00 301 ,  F27B 9/08 ,  F27B 9/24 ,  G05D 23/00

FI (5件)：

F27B 9/40 ,  B01J 19/00 301 Z ,  F27B 9/08 ,  F27B 9/24 R ,  G05D 23/00 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 膜形成素材を含む基板の焼成方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-202068   出願人：株式会社ノリタケカンパニーリミテド, 九州ノリタケ株式会社
• 多段式複数チャンバ真空熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-273070   出願人：東横化学株式会社