特許
J-GLOBAL ID:200903089507043263

反射体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 早川 政名 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-359770
公開番号(公開出願番号):特開2001-221908
出願日: 2000年11月27日
公開日(公表日): 2001年08月17日
要約:
【要約】【課題】Agの高反射率の低下を抑制し、且つ高温高湿の厳しい環境下に暴露されても安定した耐候性が継続的に得られ、更には接合性が効果的に強化された実用化上の効果が大きく、高い信頼性が得られる反射体を提供する。【解決手段】Agを主成分とし、Pd、Auのいずれか、或いは両方を0.5〜3.0wt%の範囲内で添加し、更にAl、Pt、Cu、Ta、Cr、Ti、Ni、Co、Siこれらいずれか一種以上を、例えばCu又はTiを0.1〜3.0wt%の範囲内で添加してなるAgPdX、AgAuX(X=Cu、Ti)合金からなる反射膜3を、基板2上に所定膜厚(nm)にて成膜してなる。又、前処理として有機下地膜8を基板2上に施し、その上に前記反射膜3を成膜することで、接合性を効果的に強化してなる。
請求項(抜粋):
主成分となるAgに、Au、Pdのいずれか、或いは両方を添加し、更にAl、Pt、Cu、Ta、Cr、Ti、Ni、Co、Siこれらいずれか一種若しくは複数の選択された元素を添加してなる合金反射膜を、基板上に形成してなることを特徴とする反射体。
IPC (5件):
G02B 5/08 ,  C22C 5/06 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/24 ,  C23C 14/34
FI (5件):
G02B 5/08 A ,  C22C 5/06 Z ,  C23C 14/06 R ,  C23C 14/24 E ,  C23C 14/34 A
引用特許:
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る