特許
J-GLOBAL ID：200903089559960272

超高速パルスレーザ堆積を使用する電気化学デバイス作製方法。

発明者：
ユウ シャ

ユウ シャ について

, 
ゼンドン フゥ

ゼンドン フゥ について


出願人/特許権者：
イムラ アメリカ インコーポレイテッド

イムラ アメリカ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-527754
公開番号（公開出願番号）：特表2008-504669
出願日： 2005年06月09日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：
多層薄膜電気化学デバイスを作製する方法が提供される。その方法は、チャンバー中に第1ターゲット材料を供給するステップと、前記チャンバー中に基板を供給するステップと、第1プラズマを生成するために前記第1ターゲット材料に向けられた第1断続レーザビームを放射するステップであって、前記第1断続レーザビームの各パルスは約20fsから約500psのパルス持続時間をもつ、ステップと、第1薄膜を形成するために前記基板の上に前記第1プラズマを堆積するステップと、前記チャンバー中に第2ターゲット材料を供給するステップと、第2プラズマを生成するために前記第2ターゲット材料に向けられた第2断続レーザビームを放射するステップであって、前記第2断続レーザビームの各パルスは約20fsから約500psのパルス持続時間をもつ、ステップと、第2薄膜を形成するために前記第1薄膜の上あるいは上方に前記第2プラズマを堆積するステップと、を有する。【図1】
請求項（抜粋）：
チャンバー中に第1ターゲット材料を供給するステップと、 前記チャンバー中に基板を供給するステップと、 第1プラズマを生成するために前記第1ターゲット材料に向けられた第1断続レーザビームを放射するステップであって、前記第1断続レーザビームの各パルスは約20fsから約500psのパルス持続時間をもつ、ステップと、 第1薄膜を形成するために前記基板の上に前記第1プラズマを堆積するステップと、 前記チャンバー中に第2ターゲット材料を供給するステップと、 第2プラズマを生成するために前記第2ターゲット材料に向けられた第2断続レーザビームを放射するステップであって、前記第2断続レーザビームの各パルスは約20fsから約500psのパルス持続時間をもつ、ステップと、 第2薄膜を形成するために前記第1薄膜の上あるいは上方に前記第2プラズマを堆積するステップと、 を有する多層薄膜電気化学デバイス作製方法。
IPC (6件)：
H01M 10/36 ,  H01M 4/04 ,  H01M 4/88 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10 ,  H01M 14/00
FI (6件)：
H01M10/00 115 ,  H01M4/02 108 ,  H01M4/88 Z ,  H01M8/02 P ,  H01M8/10 ,  H01M14/00 P
Fターム (66件)：
5H018AA06 ,  5H018BB07 ,  5H018DD08 ,  5H018EE02 ,  5H018EE05 ,  5H018EE12 ,  5H018HH00 ,  5H018HH03 ,  5H018HH08 ,  5H018HH10 ,  5H026AA06 ,  5H026BB04 ,  5H026CX04 ,  5H026EE02 ,  5H026EE05 ,  5H026EE12 ,  5H026HH00 ,  5H026HH03 ,  5H026HH08 ,  5H026HH10 ,  5H029AJ00 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK02 ,  5H029AK03 ,  5H029AK05 ,  5H029AL02 ,  5H029AL06 ,  5H029AL11 ,  5H029AM12 ,  5H029CJ24 ,  5H029DJ09 ,  5H029DJ17 ,  5H029HJ00 ,  5H029HJ04 ,  5H029HJ05 ,  5H029HJ14 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB05 ,  5H032BB10 ,  5H032CC14 ,  5H032EE01 ,  5H032HH00 ,  5H032HH04 ,  5H032HH06 ,  5H050AA00 ,  5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050BA18 ,  5H050CA02 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CA11 ,  5H050CB02 ,  5H050CB07 ,  5H050CB11 ,  5H050CB13 ,  5H050DA13 ,  5H050FA02 ,  5H050FA18 ,  5H050GA24 ,  5H050HA00 ,  5H050HA04 ,  5H050HA05 ,  5H050HA14 ,  5H050HA20
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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