塗布膜形成装置及びその方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-155230
公開番号（公開出願番号）：特開2002-346451
出願日： 2001年05月24日
公開日（公表日）： 2002年12月03日
要約：

【要約】【課題】基板表面に塗布膜を形成するにあたり、膜厚の面内均一性を高め、またスループットの向上を図ること。【解決手段】水平保持した基板の上方に対向する面部を有する塗布部を設け、該面部に複数の同心円に沿うように多数の吐出孔を設け、各々に塗布液供給管を接続する。すべての塗布液供給管における吐出孔近傍には、制御部と接続する開閉手段を介設し、各開閉手段を別個に開閉制御できるように構成する。塗布処理時には各同心円に沿う吐出孔ごとに塗布液の吐出を行い、基板上には塗布液がリング状に供給される。そして前記リング状の塗布液が中央部から外縁部に向けて、順次配列されるように前記開閉手段を切り替えていくことで、隣接するリング同士が密着し、一体的且つ膜厚の面内均一性の高い塗布膜が形成される。

請求項（抜粋）：

基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板と対向し、複数の同心リングに沿って形成された塗布液の吐出口と、各吐出口ごとに設けられ、夫々の吐出口からの塗布液の給断を行うための開閉手段と、前記吐出口における塗布液の吐出が、共通する同心リングに沿うものごとに行われるように前記開閉手段の給断を制御する制御部と、を備えることを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (7件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/10 , B05D 1/26 , B05D 3/00 , B05D 7/00 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

FI (8件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/10 , B05D 1/26 Z , B05D 3/00 B , B05D 3/00 D , B05D 7/00 H , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 Z

Fターム (46件)：

2H025AA18 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025EA05 , 4D075AC01 , 4D075AC02 , 4D075AC06 , 4D075AC07 , 4D075AC08 , 4D075CA47 , 4D075CA48 , 4D075DA08 , 4D075DC22 , 4D075DC24 , 4D075EA05 , 4D075EB39 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AA06 , 4F041AB01 , 4F041BA02 , 4F041BA34 , 4F041BA36 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042AA08 , 4F042AB00 , 4F042BA12 , 4F042BA25 , 4F042CA09 , 4F042CB02 , 4F042CB07 , 4F042CB08 , 4F042CB10 , 4F042CB18 , 4F042DF03 , 4F042DF09 , 4F042DF28 , 4F042DF29 , 4F042DF32 , 4F042EB05 , 4F042EB09 , 4F042EB17 , 4F042EB29 , 5F046JA02 , 5F046JA04

引用特許：

出願人引用 (2件)

現像処理方法および現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-351024 出願人：東京エレクトロン株式会社
塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-197227 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

現像処理方法および現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-351024 出願人：東京エレクトロン株式会社
塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-197227 出願人：東京エレクトロン株式会社

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