特許
J-GLOBAL ID:200903089600202304

流動床処理システム用の側部放出アセンブリおよび流動床処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 押田 良輝
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-587879
公開番号(公開出願番号):特表2002-532223
出願日: 1999年12月15日
公開日(公表日): 2002年10月02日
要約:
【要約】流動床処理システムであって、開放上部および開放底部を備えた製品室と、第1流体を前記製品室に送り込むように配置された出口を備え、該出口を前記製品室の前記開放底部から間隔を置いて配置することによって、前記製品室の前記開放底部および前記出口をほぼ取り囲む放出開口を形成している流体供給システムと、前記放出開口を塞ぐ第1位置および前記放出開口を露出させる第2位置へ移動可能な放出ゲートとを含む流動床処理システム。
請求項(抜粋):
流動床処理システムであって、 開放上部および開放底部を備えた製品室と、 第1流体を前記製品室に送り込むように配置された出口を備え、該出口を前記製品室の前記開放底部から間隔を置いて配置することによって、前記製品室の前記開放底部および前記出口をほぼ取り囲む放出開口を形成している流体供給システムと、 前記放出開口を塞ぐ第1位置および前記放出開口を露出させる第2位置へ移動可能な放出ゲートとを含む流動床処理システム。
IPC (2件):
B01J 8/24 301 ,  B01J 2/16
FI (2件):
B01J 8/24 301 ,  B01J 2/16
Fターム (11件):
4G004BA02 ,  4G004KA01 ,  4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070BB32 ,  4G070CA06 ,  4G070CA09 ,  4G070CA10 ,  4G070CA19 ,  4G070CB03 ,  4G070CB10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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