特許

J-GLOBAL ID：200903089662265736

真空断熱装置

発明者： 山田 俊治
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 池澤 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-023170
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223755
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 低温断熱機能を低下させることなく、コストダウンおよび小型化さらに保守点検作業を容易に実行可能で、たとえば180K〜80Kレベルにおいて低温処理を行うレーザーガス用低温精製装置30など各種の低温処理装置に用いて好適な真空断熱装置を提供すること。【解決手段】 レーザーガス用低温精製装置30に必要な真空断熱機能を真空容器内の輻射断熱機能と対流断熱機能とに分けてとらえること、輻射断熱機能を行うものとしてデュワーびん32を採用すること、対流断熱機能を行うものとして真空排気封じ切りの収容容器(デュワーびん32の内筒35)を採用することに着目し、外筒34および内筒35の間を高真空にし、内筒35内の収容空間37に処理機構(ガスプロセッサー部2)を収容するデュワーびん32を備え、収容空間37を真空引き可能としてあることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

低温で運転する処理機構を収容し、外部から断熱するための真空断熱装置であって、外筒および内筒を有しこれらの間を高真空にするとともに、この内筒内の収容空間に前記処理機構を収容するデュワーびんを備え、このデュワーびんにおける前記内筒内の前記収容空間を真空引き可能としてあることを特徴とする真空断熱装置。

IPC (2件)：

H01S 3/03 ,  F17C 3/08

FI (2件)：

H01S 3/03 Z ,  F17C 3/08

Fターム (4件)：

3E073CA03 ,  5F071AA06 ,  5F071BB03 ,  5F071JJ08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レーザーガスの低温精製器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-337608   出願人：岩谷産業株式会社, イワタニプランテック株式会社
• 赤外線撮像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-200782   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-156279
  
• 特開平3-156279