特許
J-GLOBAL ID：200903089667763980

界面活性剤を含有する排水の処理方法、および排水処理システム

発明者：
越智 浩泰

越智 浩泰 について

, 
千葉 俊和

千葉 俊和 について


出願人/特許権者：
日本錬水株式会社

日本錬水株式会社 について


代理人 (2件)： 古部 次郎 ,  千田 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-069898
公開番号（公開出願番号）：特開2006-247576
出願日： 2005年03月11日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】 逆浸透膜処理装置の膜面に対してカチオン系またはノニオン系の界面活性剤が吸着することによる透過流束低下を抑制する。 【解決手段】 容器を殺菌・洗浄する飲料充填設備10から排出され、カチオン系またはノニオン系の界面活性剤を含有する排水を処理する排水処理システム100であって、この界面活性剤を含有する排水を殺菌剤分解用触媒112に通液して排水に含有される殺菌剤を分解する殺菌剤分解装置110と、殺菌剤分解装置110にて処理された排水をpH6以下に調整するpH調整装置120と、このpH調整装置120によりpH6以下に調整された排水をろ過するアニオン荷電またはpH依存性両性荷電の逆浸透膜からなる逆浸透膜処理装置130とを備えた。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
カチオン系および/またはノニオン系の界面活性剤を含有する排水の処理方法であって、 前記排水をpH6以下に調整するステップと、 pH6以下に調整後の前記排水を逆浸透膜処理装置に通液するステップと を含む界面活性剤を含有する排水の処理方法。
IPC (3件)：
C02F 1/44 ,  B01D 61/02 ,  C02F 1/58
FI (4件)：
C02F1/44 F ,  B01D61/02 500 ,  C02F1/58 A ,  C02F1/58 H
Fターム (20件)：
4D006GA03 ,  4D006GA04 ,  4D006KA01 ,  4D006KB30 ,  4D006MB09 ,  4D006MB17 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB22 ,  4D006PB70 ,  4D006PC11 ,  4D038AA08 ,  4D038AB10 ,  4D038AB26 ,  4D038AB39 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB09 ,  4D038BB13 ,  4D038BB20
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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