特許
J-GLOBAL ID：200903089687208451
真空アーク蒸着方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 龍太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365606
公開番号（公開出願番号）：特開2003-166050
出願日： 2001年11月30日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：
【要約】【課題】 ダクトを囲んだ終端磁石の発散磁場による成膜特性の劣化を防止し、均一な成膜特性の真空アーク蒸着を実現する。【解決手段】 湾曲又は屈曲したダクト9の一端に位置した蒸発源11から、アーク放電により陰極材料19を蒸発し、ダクト9の複数個所それぞれにダクト9を囲んだ磁石を設けて磁気フィルタ22を形成し、このフィルタ22によりダクト9の内部に偏向磁場17′を発生し、粗大粒子を除去しつつ、陰極材料19のイオンを含むプラズマ流23をダクト9の一端から他端の放出口13に輸送し、プラズマ流23のイオンを放出口13から成膜室1に引出して成膜室1の基材6に飛着し、基材6に陰極材料19を蒸着する際に、放出口13に最も近い終端磁石(電磁コイル21)を、放出口13の放出面に対して傾けて設置し、イオンの飛着方向を制御する。
請求項（抜粋）：
湾曲又は屈曲したダクトの一端に位置した蒸発源から、アーク放電により陰極材料を蒸発し、前記ダクトの複数個所それぞれに前記ダクトを囲んだ磁石を設けて磁気フィルタを形成し、前記磁気フィルタにより前記ダクトの内部に偏向磁場を発生し、前記偏向磁場に基づき、前記蒸発によって発生した粗大粒子を除去しつつ、前記陰極材料のイオンを含むプラズマ流を前記ダクトの一端から他端の放出口に輸送し、前記プラズマ流の前記イオンを前記放出口から成膜室に引出して前記成膜室の基材に飛着し、前記基材に前記陰極材料を蒸着する真空アーク蒸着方法において、前記放出口に最も近い終端磁石を、前記放出口の放出面に対して傾けて設置し、前記終端磁石の発生磁場により、前記イオンの飛着方向を制御することを特徴とする真空アーク蒸着方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 F
, C23C 14/32 C
4K029DB14
, 4K029DD06
, 4K029EA00
, 4K029EA07
, 4K029EA09
