化学気相反応堆積装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-072787
公開番号（公開出願番号）：特開平8-268797
出願日： 1995年03月30日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【目的】例えば鉛,ストロンチウム,バリウムの錯体のような低蒸気圧原料を用いるCVD装置で、装置メンテナンスや部品信頼性を確保する。【構成】基板搬送系,ゲートバルブなど、高温保持が困難な装置部分に遮蔽流を設けて原料ガス流の濃度を局所的に低下させる。遮蔽流には、例えば鉛酸化物を合成する装置では、酸素のような、通常過剰に供給するガスのうち、常温で気体のガスを用いる。

請求項（抜粋）：

常温常圧で固体または液体の原料を用いる化学気相反応堆積装置において、反応室の堆積原料ガス供給口と被堆積物との間以外の少なくとも一部分に、供給される原料ガスと組成の異なるガスを流して、前記被堆積物以外への前記原料ガスや反応生成物の付着を防止したことを特徴とする化学気相反応堆積装置。

IPC (3件)：

C30B 25/14 , H01L 21/205 , H01L 21/31

FI (3件)：

C30B 25/14 , H01L 21/205 , H01L 21/31 B

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭57-003797
孔付きポンピングプレートを用いる堆積装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-282494 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平4-348031

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