特許
J-GLOBAL ID：200903089909499514

電気光学装置およびその製造方法ならびに投射型表示装置

発明者：
帯川 剛

帯川 剛 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-197649
公開番号（公開出願番号）：特開2001-022284
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 光の利用効率が高く、かつ、配向膜の光分解が抑制された電気光学装置およびその製造方法ならびに投射型表示装置を提供する。【解決手段】 複数の画素電極12を有する素子側基板1と、この素子側基板1と対向する対向基板2とを有し、これらの基板間に液晶3を挟持してなる液晶ライトバルブ300において、上記複数の画素電極12の各々に対応し、光源からの光を順次通過させて当該画素電極12に導く凸マイクロレンズ214と凹マイクロレンズ231とを前記対向基板2に形成したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
複数の画素電極が形成された第1の基板と、この第1の基板と対向する第2の基板とを有し、第1および第2の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置において、前記複数の画素電極の各々に対応し、光源からの光を通過させて当該画素電極に導く凸マイクロレンズと凹マイクロレンズとを前記第2の基板に形成したことを特徴とする電気光学装置。
IPC (2件)：
G09F 9/00 316 ,  G02F 1/1335
FI (2件)：
G09F 9/00 316 Z ,  G02F 1/1335
Fターム (27件)：
2H091FA26X ,  2H091FA26Z ,  2H091FA29Y ,  2H091FA34Y ,  2H091GA06 ,  2H091LA01 ,  2H091LA16 ,  2H091MA07 ,  5G435AA14 ,  5G435BB12 ,  5G435BB17 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435DD02 ,  5G435DD05 ,  5G435EE33 ,  5G435FF00 ,  5G435FF05 ,  5G435FF13 ,  5G435GG01 ,  5G435GG03 ,  5G435GG04 ,  5G435GG08 ,  5G435GG28 ,  5G435GG46 ,  5G435HH12 ,  5G435KK05
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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