特許
J-GLOBAL ID:200903090044990789
還元剤添加装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
川口 嘉之
, 松倉 秀実
, 和久田 純一
, 世良 和信
, 遠山 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-175759
公開番号(公開出願番号):特開2005-351245
出願日: 2004年06月14日
公開日(公表日): 2005年12月22日
要約:
【課題】燃費よく還元剤添加弁を冷却し、適切に排気ガス中に還元剤を添加することができる技術を提供する。【解決手段】 内燃機関の排気通路に設置され還元剤の存在下で排気ガスに含まれる窒素酸化物を浄化する触媒に対して、当該触媒の上流側の排気通路に還元剤を添加する還元剤添加装置であって、排気通路に還元剤を添加する還元剤添加弁21と、還元剤添加弁21の周囲に形成されたガス通路59と、ガス通路59と内燃機関の吸気通路とを連通し吸気通路を流通するガスの一部をガス通路に導くガス導入通路(64a、65a)と、ガス通路59と排気通路とを連通しガス通路を流通したガスを排気通路に排出するガス排出通路(64a、65a)とを備える。【選択図】図2(a)
請求項(抜粋):
内燃機関の排気通路に設置され還元剤の存在下で排気ガスに含まれる窒素酸化物を浄化する触媒に対して、当該触媒の上流側の排気通路に還元剤を添加する還元剤添加装置であって、
前記排気通路に還元剤を添加する還元剤添加弁と、
当該還元剤添加弁の周囲に形成されたガス通路と、
当該ガス通路と前記内燃機関の吸気通路とを連通し当該吸気通路を流通するガスの一部を前記ガス通路に導くガス導入通路と、
前記ガス通路と前記排気通路とを連通し前記ガス通路を流通したガスを前記排気通路に排出するガス排出通路と、
を備えたことを特徴とする還元剤添加装置。
IPC (5件):
F01N3/36
, B01D53/86
, B01D53/94
, F01N3/24
, F01N3/28
FI (6件):
F01N3/36 C
, F01N3/24 L
, F01N3/24 T
, F01N3/28 301C
, B01D53/36 101A
, B01D53/36
Fターム (42件):
3G091AA10
, 3G091AA11
, 3G091AB04
, 3G091AB05
, 3G091AB06
, 3G091AB09
, 3G091BA14
, 3G091BA21
, 3G091CA08
, 3G091CA16
, 3G091CA18
, 3G091CB02
, 3G091CB03
, 3G091CB07
, 3G091DB10
, 3G091DC06
, 3G091EA01
, 3G091EA03
, 3G091EA05
, 3G091EA07
, 3G091EA16
, 3G091EA17
, 3G091EA21
, 3G091EA34
, 3G091EA35
, 3G091FA07
, 3G091FA11
, 3G091FB03
, 3G091FB10
, 3G091FB11
, 3G091FB12
, 3G091FC08
, 3G091HA36
, 3G091HB01
, 3G091HB05
, 3G091HB06
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048AB07
, 4D048AC02
, 4D048CC61
, 4D048EA04
引用特許:
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