飽和炭化水素化合物の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：和気操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-329265
公開番号（公開出願番号）：特開2007-182436
出願日： 2006年12月06日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：

【課題】遠紫外領域における透過性に優れる液浸露光用液体として好適な飽和炭化水素化合物を従来より少量の硫酸で処理できる。【解決手段】上記硫酸洗浄処理が第1の硫酸洗浄処理工程後に該第1の工程の洗浄処理温度よりも10°C以上低い洗浄処理温度で処理する第2の硫酸洗浄処理工程を有する吸光度を低下させるための硫酸洗浄処理による飽和炭化水素化合物の製造方法であり、また、上記第2の硫酸洗浄処理工程で処理される飽和炭化水素化合物の吸光度が液体の光路長1cmあたり波長193nmにおける吸光度が0.10以下であり、また、上記飽和炭化水素化合物が脂環式飽和炭化水素化合物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

吸光度を低下させるための硫酸洗浄処理による飽和炭化水素化合物の製造方法であって、前記硫酸洗浄処理は、処理温度の異なる複数の洗浄処理工程を含み、少なくとも最終硫酸洗浄処理工程の処理温度が該洗浄処理工程より前の処理工程の処理温度よりも低い処理温度で処理することを特徴とする飽和炭化水素化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C07C 7/171 , C07C 13/48

FI (2件)：

C07C7/171 , C07C13/48

Fターム (5件)：

4H006AA02 , 4H006AD16 , 4H006BC51 , 4H006BD84 , 4H006BJ30

引用特許：

出願人引用 (3件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-341445 出願人：株式会社ニコン
投影露光方法及び装置
公報種別：再公表公報出願番号：JP1999001262 出願人：株式会社ニコン
液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン

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