特許
J-GLOBAL ID：200903090337496576

液浸式露光装置

発明者：
森 直

森 直 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-114270
公開番号（公開出願番号）：特開2005-302880
出願日： 2004年04月08日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 ウエハ裏面に液体が残ることを低減することを可能とした露光装置を提供すること。【解決手段】 レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記基板との間の液体を介して、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を保持するためのチャックと、前記基板の表面と略同じ高さの表面を持ち、該基板と共に前記液体を保持する液体保持部と、を有し、前記液体保持部の前記チャック側の側壁の疎水性は、前記液体保持部の該側壁の周辺の疎水性よりも高いことを特徴とする構成とした。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記基板との間の液体を介して、前記基板を露光する露光装置において、 前記基板を保持するためのチャックと、 前記基板の表面と略同じ高さの表面を持ち、該基板と共に前記液体を保持する液体保持部と、を有し、 前記液体保持部の前記チャック側の側壁の疎水性は、前記液体保持部の該側壁の周辺の疎水性よりも高いことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 501
Fターム (8件)：
2H097BA10 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 米国特許第5121256号明細書
  • 欧州特許出願公開第0023231明細書
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
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審査官引用 (1件)

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