特許
J-GLOBAL ID：200903090364117684

X線マスク又はX線マスク材料の支持体用ガラス、X線マスク材料及びX線マスク

発明者：
笑喜 勉

笑喜 勉 について

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大久保 亮

大久保 亮 について

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山口 洋一

山口 洋一 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-055742
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263318
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 200°C以下の温度でシリコン基板との陽極接合が可能であり、好ましくは陽極接合後に面内歪みを生じにくい、X線マスク材料及びX線マスクの支持体用ガラス、並びにこのガラスを用いたX線マスク材料及びX線マスクの提供。【構成】 20°Cにおいて1×1013〜1×105 Ω・cmの範囲の体積抵抗率を有するガラスであるX線マスク材料及びX線マスクの支持体用ガラス。β-ユークリブタイト、β-石英固溶体又はこの両者を含有するアルミノケイ酸ガラスであるX線マスク材料及びX線マスクの支持体用ガラス。前記ガラスであって、好ましくは、陽極接合温度帯域において、シリコンの熱膨張による伸び率と実質的に等しい熱膨張による伸び率を有するガラス。前記ガラスを支持体として用いたX線マスク材料及びX線マスク。
請求項（抜粋）：
20°Cで1×1013〜1×105 Ω・cmの範囲の体積抵抗率を有するガラスであることを特徴とするX線マスク又はX線マスク材料の支持体用ガラス。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  C03C 10/12 ,  C03C 10/14 ,  G03F 1/16
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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