特許

J-GLOBAL ID：200903090399089179

露光装置

発明者： 島 伸一 ,  前田 浩平
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-100581
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297726
出願日： 2002年04月02日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】 高精度なマスクのたわみ検出を実現しつつ装置の大型化を防止してマスクパターンの投影を良好に行う露光装置を提供する。【解決手段】 所定の結像特性を有する投影光学系と、転写されるべきパターンが形成されたマスクと前記投影光学系の間に配置され、前記パターンの歪みを低減するための補正光学素子と、前記マスクのパターン面側に配置され、前記補正光学素子を介して前記マスクの面形状を検出する斜入射方式の検出手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。

請求項（抜粋）：

所定の結像特性を有する投影光学系と、転写されるべきパターンが形成されたマスクと前記投影光学系の間に配置され、前記パターンの歪みを低減するための補正光学素子と、前記マスクのパターン面側に配置され、前記補正光学素子を介して前記マスクの面形状を検出する斜入射方式の検出手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/24 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 D ,  G01B 11/24 F

Fターム (22件)：

2F065AA24 ,  2F065AA37 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC17 ,  2F065FF01 ,  2F065FF09 ,  2F065FF42 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065LL28 ,  2F065MM14 ,  2F065MM24 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 走査型露光方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-199890   出願人：株式会社ニコン
• フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、該フォトマスクを扱う投影露光装置、及び投影露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-049802   出願人：株式会社ニコン