露光用マスクの製造方法、露光用マスク、それを用いた電気光学装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-212983
公開番号（公開出願番号）：特開2000-047363
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】マスクむらがパターニング結果に支障を及ぼすことのない露光用マスクの製造方法、この方法で製造した露光用マスク、およびこの露光用マスクを用いた液晶装置の製造方法を提供すること。【解決手段】露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってY方向に相対的に走査される電子ビームEBの走査領域EAを1走査毎にX方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を2サイクル以上繰り返す。このとき、各サイクル毎のエネルギービームの走査開始位置をX方向にずらし、走査領域EAの境界部分を打ち消すことによってマスクむらを解消する。

請求項（抜粋）：

マスク基板の面内方向において互いに交差する方向をそれぞれX方向およびY方向としたときに、前記マスク基板に遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってY方向に相対的に走査されるエネルギー線の走査領域を1走査毎にX方向に相対移動させながら前記レジスト層に所定のマスクパターンを描画する描画工程と、前記レジスト層に現像を施してレジストマスクを形成する工程と、前記レジストマスクを用いて前記遮光層にエッチングを行う工程とを有する露光用マスクの製造方法において、前記描画工程では、前記マスク基板上の同一箇所にエネルギー線を2サイクル以上走査するとともに、当該同一箇所へ2サイクル以上の走査の際にエネルギー線の走査領域をX方向にずらして重ねて走査することを特徴とする露光用マスクの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G02F 1/136 500 , G03F 7/20

FI (3件)：

G03F 1/08 B , G02F 1/136 500 , G03F 7/20

Fターム (17件)：

2H092MA14 , 2H092MA16 , 2H092NA07 , 2H095BA12 , 2H095BB10 , 2H095BB27 , 2H095BB33 , 2H095BB34 , 2H095BC13 , 2H097AA03 , 2H097AA11 , 2H097BA06 , 2H097BB01 , 2H097CA05 , 2H097CA16 , 2H097KA28 , 2H097LA12

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭60-010669
特開昭60-010669
特開平4-252016

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