特許
J-GLOBAL ID：200903090480741255

シリコン鋳造装置

発明者：
湯本 芳明

湯本 芳明 について

, 
山谷 宗義

山谷 宗義 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184436
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019591
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：
【要約】【課題】 溶解時間が長くかかるという問題があった。【解決手段】 鋳型1の周囲に鋳型1内のシリコン原料7を加熱溶融させるためのヒータ3を設け、このヒータ3と鋳型7を断熱壁4で覆ったシリコン鋳造装置であって、上記鋳型1の上部に、底から出湯する形式の溶解るつぼ5aを設け、この溶解るつぼ5aから上記鋳型1内にシリコン融液を追加供給できるようにした。
請求項（抜粋）：
鋳型の周囲に鋳型内のシリコン原料を加熱溶融させるためのヒータを設け、このヒータと鋳型を断熱壁で覆ったシリコン鋳造装置において、前記鋳型の上部に、底から出湯する形式の溶解るつぼを設け、この溶解るつぼから前記鋳型内にシリコン融液を追加供給できるようにしたことを特徴とするシリコン鋳造装置。
Fターム (5件)：
4G077AA02 ,  4G077BA04 ,  4G077CD08 ,  4G077EG01 ,  4G077EG18
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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