特許
J-GLOBAL ID：200903090521082237
投影露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010375
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297620
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】 二種類以上の硝材を用いた複数の屈折光学素子を有する投影光学系の大気圧変化による光学特性の変化を補正又は十分に小さくする。【解決手段】 投影光学系105の空気間隔121と空気間隔122と空気間隔124のそれぞれの空間がヘリウムガスで満たされていて大気に開放され、空気間隔123の空間が窒素ガスで満たされて大気に開放されており、大気圧の変化を検出する気圧計の出力に基いてマスク101を照明するArFエキシマレーザー光の波長を変化させることにより大気圧変化による投影光学系の球面収差やコマ収差や像面湾曲等の変化を補正する。
請求項（抜粋）：
露光光で照明されたマスクのパターンを投影光学系によって基板上に投影する投影露光装置において、前記露光光の波長を変えることによって大気圧の変化による前記投影光学系の光学特性の変化を小さくする手段を有し、前記投影光学系が二種類以上の硝材を用いた複数の屈折光学素子を有し且つ屈折光学素子間の空間のそれぞれに大気圧と同一又はほぼ同一の圧力となる気体が満たされていて該空間の内の少なくとも一つの空間の気体が他の少なくとも一つの空間の気体とは屈折率が異なる気体であることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 516 F
