特許
J-GLOBAL ID:200903090575636270

3-チエニル基含有ケイ素化合物及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池内 寛幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-242352
公開番号(公開出願番号):特開平6-092971
出願日: 1992年09月10日
公開日(公表日): 1994年04月05日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】基体表面に導電性単分子膜を形成するために有用なチオフェン誘導体であって、単分子膜を基体表面に容易にしかも強固に吸着させることのできる3-チエニル基含有ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。【構成】式Iの3-チエニル基含有ケイ素化合物。前記化合物は、ω-(3-チエニル)-1-アルケン化合物と、モノシランの4個の水素原子の内の3個をハロゲン又はアルキロキシ基で置換したモノシラン誘導体化合物とを遷移金属触媒の存在下で反応させて合成する。
請求項(抜粋):
下記式(化1)で示される3-チエニル基含有ケイ素化合物。【化1】
IPC (5件):
C07F 7/08 ,  C07F 7/12 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/075 511 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (7件)
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