特許
J-GLOBAL ID：200903090576689319

ワイヤカット放電加工用液処理装置

発明者：
水野 裕司

水野 裕司 について


出願人/特許権者：
株式会社ニクニ

株式会社ニクニ について


代理人 (3件)： 樺澤 襄 ,  樺澤 聡 ,  山田 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-290157
公開番号（公開出願番号）：特開2005-219201
出願日： 2004年10月01日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】ワイヤカット放電加工装置から排出した加工金属屑によって濾材に生ずる目詰まりを抑制できるワイヤカット放電加工用液処理装置を提供する。 【解決手段】ワイヤカット放電加工装置11の近傍に、このワイヤカット放電加工装置11から排出した汚濁液Loを溜める汚濁液槽13を設置する。この汚濁液槽13の小タンク部31からポンプ15により汲み上げた汚濁液中の加工金属屑を遠心分離作用により1次濾過するサイクロンフィルタ17を設置する。このサイクロンフィルタ17で1次濾過された液L1中の不純物を濾材により2次濾過する濾材フィルタ37を清浄液槽38内に設置する。 【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ワイヤカット放電加工装置から排出された汚濁液を溜める汚濁液槽と、 この汚濁液槽からポンプにより汲み上げた汚濁液中の加工金属屑を遠心分離作用により1次濾過するサイクロンフィルタと、 このサイクロンフィルタで1次濾過された液中の不純物を濾材により2次濾過する濾材フィルタと、 この濾材フィルタにより浄化された清浄液を溜める清浄液槽と を具備したことを特徴とするワイヤカット放電加工用液処理装置。
IPC (5件)：
B23H7/02 ,  B01D21/26 ,  B01D36/00 ,  B23H7/36 ,  B23Q11/00
FI (5件)：
B23H7/02 A ,  B01D21/26 ,  B01D36/00 ,  B23H7/36 C ,  B23Q11/00 U
Fターム (8件)：
3C011BB32 ,  3C059AA01 ,  3C059AB05 ,  3C059DA06 ,  3C059EB02 ,  3C059EB04 ,  4D066AB01 ,  4D066BB01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
  • 特開昭57-001618
  • 特開平4-111721
  • 汚水処理方法及びシステム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-327238   出願人：郭鉄柱
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