特許

J-GLOBAL ID：200903090583404389

タンタル化合物、その製造方法、タンタル含有薄膜、及びその形成方法

発明者： 関本 謙一 ,  多田 賢一 ,  高森 真由美 ,  山川 哲 ,  古川 泰志 ,  大島 憲昭
出願人/特許権者： 財団法人相模中央化学研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351086
公開番号（公開出願番号）：特開2007-084522
出願日： 2005年12月05日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：

【課題】ハロゲン元素等を含まないタンタル含有膜及び目的とする元素を含んだ各種タンタル含有膜の作り分けが可能な新規なタンタル化合物及びその製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)(式中R1は炭素数2から6の直鎖状アルキル基。)等で表されるタンタル化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)

IPC (4件)：

C07F 17/00 ,  C23C 16/30 ,  H01L 21/285 ,  C07F 9/00

FI (4件)：

C07F17/00 ,  C23C16/30 ,  H01L21/285 C ,  C07F9/00 Z

Fターム (27件)：

4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB78 ,  4H050AB91 ,  4H050BB11 ,  4H050BB15 ,  4H050BB25 ,  4H050BB31 ,  4H050BE22 ,  4H050BE23 ,  4H050WB11 ,  4H050WB12 ,  4H050WB13 ,  4H050WB21 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030BA17 ,  4K030BA36 ,  4K030BA38 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  4M104BB17 ,  4M104DD45

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第6491987号明細書
  
• 米国特許第6743473号明細書
  

審査官引用 (3件)

• 基板上に窒化タンタルを蒸着(deposition)するためのタンタルアミド前駆物質
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-528576   出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
• タンタル系材料の蒸着のための化学蒸着前駆体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-500776   出願人：アドバンスドテクノロジーマテリアルズ,インコーポレイテッド
• 新規な前駆体からの障壁の化学蒸着
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-086383   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (3件)

• Bis(η-isopropylcyclopentadienyl)tantalum Chemistry: Some hydride, Carbonyl, Alkyl, Alkyne and Terti
• Allyl Complexes of Dicyclopentadienyl-Niobium (III) and -Tantalum (III)
• Synthesis and Properties of Dicyclopentadienyltantalum Hydride Olefin Compounds