特許

J-GLOBAL ID：200903090587304117

加工水コントロールシステム

発明者： 下村 敦 ,  吉田 幹 ,  小林 直樹
出願人/特許権者： 株式会社ディスコ ,  日本碍子株式会社 ,  エヌジーケイ・フィルテック株式会社
代理人 (1件)： 秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-339791
公開番号（公開出願番号）：特開2000-157996
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】 加工装置で使用される加工水の廃水処理と再利用が図れるようにした、加工水コントロールシステムを提供する。【解決手段】 加工水調整装置から複数の加工装置に加工水を供給し、使用済みの加工水は廃水経路を経て廃水リサイクル装置に送り込み、加工水を再生して加工水調整装置に戻し循環使用すると共に、ごく少量の濃縮廃水を廃棄する。廃水リサイクル装置は、廃水を濾過して加工水と濃縮廃水に分離するセラミックフィルターを含む廃水部と、廃水部からの加工水を紫外線照射やイオン交換で処理し且つ微細な混合物を排除する手段を含む再生部とから構成される。廃水部ではクロスフローを行い廃棄する濃縮廃水量を減少させる。循環使用により減量した加工水は、純水補給部から適宜補給する。

請求項（抜粋）：

加工水を循環して使用する加工水のコントロールシステムであって、加工水を必要とする加工装置と、この加工装置に連通し使用された加工水を排出する廃水経路と、この廃水経路に連通し廃水を濾過して加工水を再生する廃水リサイクル装置と、この廃水リサイクル装置に連通し生成された加工水を適宜の温度に調整する加工水調整装置と、この加工水調整装置に連通し定温に生成された加工水を前記加工装置に供給する加工水供給経路と、から構成される加工水コントロールシステム。

IPC (5件)：

C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  B24B 57/02

FI (7件)：

C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 503 G ,  C02F 9/00 504 E ,  B24B 57/02

Fターム (4件)：

3C047GG13 ,  3C047GG15 ,  3C047GG17 ,  3C047GG18

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 廃水リサイクルシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-147004   出願人：株式会社日立製作所
• 超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-108217   出願人：栗田工業株式会社
• 特開平3-038211
  
• 特開昭59-169592
  

審査官引用 (4件)

• 廃水リサイクルシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-147004   出願人：株式会社日立製作所
• 超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-108217   出願人：栗田工業株式会社
• 特開平3-038211
  
• 特開昭59-169592