特許
J-GLOBAL ID:200903090589586454
エタンを接触酸化する酢酸の選択的製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-516936
公開番号(公開出願番号):特表2001-520976
出願日: 1998年10月09日
公開日(公表日): 2001年11月06日
要約:
【要約】【解決手段】本発明は、エタン、エチレンまたはそれらの混合物と酸素とより成るガス状供給原料から高められた温度で酢酸を製造する選択的方法に関する。上記供給原料を、Mo、Pd,XおよびY元素を酸素と組み合わせてa:b:c:dのグラム原子比で含有する下記式 Moa Pdb Xc Yd (I)[式中、XはCr、Mn、Nb、Ta、Ti、V、TeおよびWより成る群から選択される1種類以上の元素であり;YはB、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、Rh、Ir、Cu、Ag、Au、Fe、Ru、Os、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Nb、Zr、Hf、Ni、P、Pb、Sb、Si、Sn、TlおよびUより成る群から選択される1種類以上の元素であり、指数a、b、c、dおよびxは相応する元素のグラム原子比であり、即ちaは1であり、bは0.0001〜0.01であり、cは0.4〜1であり、そしてdは0.005〜1である。]で表される触媒と接触させる。本発明の方法を用いて酢酸に酸化する際の空時得率が>150kg/時・m3 である。エタン/エチレンを酢酸に酸化する反応の選択率は≧70モル%であるのが好ましい。
請求項(抜粋):
エタン、エチレンまたはそれらの混合物と酸素とより成るガ ス状供給原料から高められた温度で酢酸を製造する方法において、Mo、Pd 、XおよびY元素を酸素と組み合わせてa:b:c:dのグラム原子比で含有 する下記式 Moa Pdb Xc Yd (I) [式中、記号XおよびYは以下の意味を有し: XはCr、Mn、Nb、Ta、Ti、V、TeおよびWより成る群から選択 される1種類以上の元素であり;、 YはB、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、Rh、 Ir、Cu、Ag、Au、Fe、Ru、Os、K、Rb、Cs、Mg、Ca、 Sr、Ba、Nb、Zr、Hf、Ni、P、Pb、Sb、Si、Sn、Tlお よびUより成る群から選択される1種類以上の元素であり、 指数a、b、c、dおよびxは相応する元素のグラム原子比であり、かつ aは1であり、 bは0.0001〜0.01であり、 cは0.4〜1であり、そして dは0.005〜1である。] で表されそして酢酸に酸化する際の空時得率が>150kg/時・m3 である 触媒に前記ガス状供給原料を接触させることを特徴とする、上記方法。
IPC (5件):
C07C 51/215
, B01J 23/652
, C07C 51/25
, C07C 53/08
, C07B 61/00 300
FI (5件):
C07C 51/215
, C07C 51/25
, C07C 53/08
, C07B 61/00 300
, B01J 23/64 103
Fターム (117件):
4G069AA02
, 4G069AA03
, 4G069BA01A
, 4G069BA02A
, 4G069BA04A
, 4G069BA05A
, 4G069BA08A
, 4G069BA09A
, 4G069BA14A
, 4G069BA15A
, 4G069BA17
, 4G069BB01A
, 4G069BB04A
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BB11A
, 4G069BB14A
, 4G069BB15A
, 4G069BC03A
, 4G069BC05A
, 4G069BC06A
, 4G069BC09A
, 4G069BC09B
, 4G069BC10A
, 4G069BC12A
, 4G069BC13A
, 4G069BC16A
, 4G069BC17A
, 4G069BC18A
, 4G069BC19A
, 4G069BC21A
, 4G069BC22A
, 4G069BC25A
, 4G069BC26A
, 4G069BC26B
, 4G069BC31A
, 4G069BC32A
, 4G069BC33A
, 4G069BC35A
, 4G069BC36A
, 4G069BC42A
, 4G069BC43A
, 4G069BC46A
, 4G069BC47A
, 4G069BC50A
, 4G069BC51A
, 4G069BC52A
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, 4G069BC54B
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, 4G069BC59B
, 4G069BC60A
, 4G069BC62A
, 4G069BC66A
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, 4G069BC70A
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, 4G069CB74
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, 4G069DA07
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, 4G069EB18Y
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, 4H006AA02
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, 4H006BA10
, 4H006BA12
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, 4H006BA31
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, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BC32
, 4H006BE30
, 4H006BS10
, 4H039CA65
, 4H039CC30
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
酢酸の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-220683
出願人:昭和電工株式会社
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