特許
J-GLOBAL ID:200903090656549151
不均一系リン酸ジルコニウム触媒、脱水反応方法、5-ヒドロキシメチルフルフラール製造方法、セルロース分解方法、及び不均一系リン酸ジルコニウム触媒の再生方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加藤 敬子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-019898
公開番号(公開出願番号):特開2007-196174
出願日: 2006年01月28日
公開日(公表日): 2007年08月09日
要約:
【課題】 超臨界状態若しくは亜臨界状態の水熱反応において、生成物の収率が高く、しかも触媒の回収、再生が容易な触媒と、この触媒を用いた分解方法を提供する。【解決手段】 本発明のリン酸ジルコニウムを用いると、生成物の収率が高く、しかも触媒の回収、再生が容易である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
塩化ジルコニウムを塩酸に溶解する工程と、
前記溶液に、過剰のリン酸を滴下して、リン酸ジルコニウムゲルを生成する工程と、
生成したリン酸ジルコニウムゲルを遠心分離する工程と、
遠心分離したリン酸ジルコニウムゲルをリン酸で洗浄し、次にリン酸イオンと塩素イオンとがなくなるまで蒸留水で洗浄する工程と、
得られたリン酸ジルコニウムを一定量にまで乾燥する工程とを
含み製造される不均一系リン酸ジルコニウム触媒。
IPC (4件):
B01J 27/18
, B01J 27/28
, B01J 37/03
, C07D 307/50
FI (4件):
B01J27/18 Z
, B01J27/28 Z
, B01J37/03 Z
, C07D307/50
Fターム (27件):
4C037HA22
, 4G169AA02
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169AA10
, 4G169BA38
, 4G169BB08C
, 4G169BB14A
, 4G169BB14B
, 4G169BB14C
, 4G169BC51A
, 4G169BC51B
, 4G169BC51C
, 4G169BD12C
, 4G169CB35
, 4G169CB70
, 4G169DA05
, 4G169FA01
, 4G169FB08
, 4G169FB27
, 4G169FB30
, 4G169FB31
, 4G169FC02
, 4G169FC04
, 4G169GA11
, 4H039CA42
, 4H039CH20
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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特開昭55-013243
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特開昭55-013243
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酸化脱水素触媒及び酸化脱水素方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-118367
出願人:ダイセル化学工業株式会社
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引用文献:
出願人引用 (1件)
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新実験化学講座8 無機化合物の合成II, 197703, p.793-794
審査官引用 (2件)
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新実験化学講座8 無機化合物の合成II, 197703, p.793-794
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新実験化学講座8 無機化合物の合成II, 197703, p.793-794
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