特許
J-GLOBAL ID：200903090685558178

状況解析システムおよび状況解析方法

発明者：
煤孫 光俊

煤孫 光俊 について

, 
佐藤 恵二

佐藤 恵二 について


出願人/特許権者：
横河電機株式会社

横河電機株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-030710
公開番号（公開出願番号）：特開2007-213194
出願日： 2006年02月08日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
【課題】マハラノビス・タグチメソッドを使用することにより、監視対象の状況を容易かつ迅速に解析できる状況解析システムおよび状況解析方法を提供する。【解決手段】データ蓄積手段101は、監視対象から得られたデータを蓄積する。基準空間作成手段102は、データ蓄積手段101に蓄積されたデータに基づいて基準空間を作成する。データ取得手段103は、監視対象からデータを取得する。距離算出手段104は、基準空間作成手段102により作成された基準空間に、データ取得手段103で得られたデータを入力することでマハラノビス距離を算出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
監視対象から取得されたデータに基づいて監視対象の状況を解析する状況解析システムにおいて、 監視対象から得られたデータを蓄積するデータ蓄積手段と、 前記データ蓄積手段に蓄積された前記データに基づいて基準空間を作成する基準空間作成手段と、 前記監視対象からデータを取得するデータ取得手段と、 前記基準空間作成手段により作成された前記基準空間に、前記データ取得手段で得られた前記データを入力することでマハラノビス距離を算出する距離算出手段と、 を備えることを特徴とする状況解析システム。
IPC (1件)：
G05B 23/02
FI (1件)：
G05B23/02 301V
Fターム (8件)：
5H223AA01 ,  5H223CC08 ,  5H223CC09 ,  5H223DD03 ,  5H223DD07 ,  5H223DD09 ,  5H223EE06 ,  5H223FF06
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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