特許
J-GLOBAL ID:200903090755573757

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安田 敏雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-001707
公開番号(公開出願番号):特開平11-145081
出願日: 1998年01月07日
公開日(公表日): 1999年05月28日
要約:
【要約】【課題】 成膜室を有するコアチャンバと加圧処理室とを離隔して配置しても、ウェーハ等の物品を安定した姿勢で移送可能とする。【解決手段】 成膜室4を有するコアチャンバ2と加圧処理室10とを連絡する通路12を設け、この通路12内に中継移送体13を設けている。
請求項(抜粋):
物品移送体を内蔵したコアチャンバに、成膜室及び加圧処理室等のプロセスチャンバが装着されている成膜装置において、離隔して配置したコアチャンバと加圧処理室とを開閉自在なゲートを介して連絡する通路を設け、該通路内に、前記物品移送体を介して移送された物品を受け入れて加圧処理室に出入自在として移送する中継移送体を備えていることを特徴とする成膜装置。
IPC (3件):
H01L 21/285 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/203
FI (3件):
H01L 21/285 P ,  C23C 14/56 G ,  H01L 21/203 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
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