特許
J-GLOBAL ID：200903090815388083
浸炭および浸炭窒化処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小塩 豊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-350993
公開番号（公開出願番号）：特開2000-178710
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：
【要約】【課題】 高度のシール構造を備えた真空炉を必要とせず、被処理物を温度むらなく速やかに加熱することができ、浸炭と窒化の同時処理をも行うことができる浸炭および浸炭窒化処理方法を提供する。【解決手段】 窒素雰囲気中でワークを所定の浸炭温度まで加熱したのち、浸炭用ガスとして、アセチレンやエチレンのような鎖状不飽和炭化水素ガスを断続的に供給することによって浸炭させる。また、窒素源としてのアンモニアガスを上記鎖状不飽和炭化水素ガスと共に断続供給することによって浸炭窒化させる。
請求項（抜粋）：
加熱室内に収納したワークを窒素雰囲気中で所定の浸炭温度まで加熱したのち、加熱室内に鎖状不飽和炭化水素ガスを断続的に供給して浸炭させることを特徴とする浸炭処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4K028AA01
, 4K028AA03
, 4K028AB06
, 4K028AC08
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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