特許
J-GLOBAL ID:200903090848610687
磁気ヘッドの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-173337
公開番号(公開出願番号):特開2001-006141
出願日: 1999年06月18日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 フェムトスライダー等の微小サイズの磁気ヘッドを高精度にかつ歩留りよく製造する。【解決手段】 ウエハプロセスにより基板の表面に磁性膜等を成膜して磁気ヘッド素子を形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記基板として、スライダーの長さ寸法よりも厚さ寸法の厚いウエハ50を使用し、基板に成膜した後、あるいは基板に成膜して裏面を研削した状態でのウエハ50の厚さをスライダーの長さ寸法よりも厚く設定したウエハ50からロウバー52を切り出しし、該ロウバー52に所要の加工を施してスライダーを形成する。
請求項(抜粋):
ウエハプロセスにより基板の表面に磁性膜等を成膜して磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記基板として、スライダーの長さ寸法よりも厚さ寸法の厚いウエハを使用することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G11B 5/60 C
, G11B 5/31 M
Fターム (12件):
5D033AA01
, 5D033DA02
, 5D033DA07
, 5D033DA22
, 5D033DA31
, 5D042NA02
, 5D042PA01
, 5D042PA05
, 5D042PA09
, 5D042RA02
, 5D042RA04
, 5D042RA10
引用特許:
審査官引用 (7件)
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薄膜磁気ヘッドの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-066714
出願人:ティーディーケイ株式会社
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特開平4-139608
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薄膜磁気ヘッドとその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-309724
出願人:日立金属株式会社, 株式会社日立製作所
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特開昭56-093112
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磁気ヘッドスライダの浮上面加工方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-205753
出願人:日本電気株式会社
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特開平4-139608
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特開昭56-093112
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