特許
J-GLOBAL ID：200903090863536299

加速された粒子を発生させる装置並びに方法

発明者：
ジョンソン、ウェイン・エル

ジョンソン、ウェイン・エル について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-516075
公開番号（公開出願番号）：特表2001-520433
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：
【要約】【課題】基板を処理するために低エネルギーの粒子ビームを発生可能なシステム並びに方法を提供する。【解決手段】イオンを加速させて、エネルギーイオンと中性粒子との流れを発生させるために、密度勾配を有するプラズマを使用する装置並びに方法。プラズマ密度は、プラズマに不均一な磁界を与えるかプラズマに不均一なRFパワーを与えることにより発生される。プラズマ内の電圧(即ち、プラズマポテンシャル)は、プラズマの密度に依存しているので、プラズマ勾配はプラズマ内に電界を発生させ、これによりイオンは、例えば、基板方向に加速される。
請求項（抜粋）：
チャンバと、 このチャンバ内でプラズマを発生させるプラズマ発生器と、 粒子を加速するように、前記プラズマに密度勾配を生じさせる手段とを具備する、加速された粒子を発生させる装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  B23K 10/00 502 ,  H01L 21/3065
FI (3件)：
H05H 1/46 L ,  B23K 10/00 502 Z ,  H01L 21/302 B
Fターム (8件)：
5F004AA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BD04 ,  5F004DA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DB02 ,  5F004DB08
引用特許：
審査官引用 (10件)
  • 高速原子線源
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-054057   出願人：株式会社荏原製作所
  • 中性粒子ビーム処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-295132   出願人：日本電気株式会社
  • 特開平4-287318
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