特許
J-GLOBAL ID:200903090964988433
マグネシウムシリサイドの合成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-347150
公開番号(公開出願番号):特開2005-112653
出願日: 2003年10月06日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
【課題】 安価で簡便にマグネシウムシリサイドを合成する方法を提供する。【解決手段】 液状MgCl2中、Si塊と金属Mgとを常圧で加熱する工程を具備することを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
液状MgCl2中、Si塊と金属Mgとを常圧で加熱する工程を具備することを特徴とするマグネシウムシリサイドの合成方法。
IPC (3件):
C01B33/06
, H01L35/14
, H01L35/34
FI (3件):
C01B33/06
, H01L35/14
, H01L35/34
Fターム (8件):
4G072AA20
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072JJ09
, 4G072JJ28
, 4G072MM38
, 4G072RR21
, 4G072UU30
引用特許: