特許
J-GLOBAL ID:200903090987340686

薄膜音響共振子の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鳥居 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-145259
公開番号(公開出願番号):特開2002-043879
出願日: 2001年05月15日
公開日(公表日): 2002年02月08日
要約:
【要約】【課題】 電気的、音響的性能の向上が図れる共振器の所望の音響モードを形成する薄膜共振器の形成方法を提供することである。【解決手段】 高周波フィルタリング、周波数制御アプリケーションで用いられる薄膜共振器のバッチファブリケーションにおいて、このプロセスは使用される。レンズアレイの製造に用いられる公知の方法から派生した方法で、フォトリソグラフを利用し、この形状を得ることが出来る。このプロセスによって、共振器内での音響波の横方向の動きを制御し、音波の音響エネルギーを共振器内の所望の位置に位置付けることが可能になる。この形成法により、共振器縁部近くでの音響エネルギーの発生が最小限に抑えられる。この縁部近くでは、エネルギー漏れ、あるいは好ましくない波が所望のモードで発生することがある。
請求項(抜粋):
加熱スケジュール、蒸気サイクルのいずれかによってマスク材料を構造物に形成する工程と、共振子を形成するために共振子から材料を除去する工程と、からなる高周波薄膜音響共振子の形成方法。
IPC (2件):
H03H 3/02 ,  H01L 41/22
FI (2件):
H03H 3/02 B ,  H01L 41/22 Z
Fターム (1件):
5J108MM08
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (11件)
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