特許

J-GLOBAL ID：200903091016137783

被処理物の表面処理方法および被処理物の表面処理装置

発明者： 今井 正夫 ,  安達 甫 ,  都田 昌之
出願人/特許権者： 高周波フィールド株式会社
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-005900
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221252
出願日： 2003年01月14日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】高周波超音波を印加することなく、従来の高周波音波洗浄装置に比べて半導体基板のような被処理物の表面処理領域の拡大と表面処理力の向上を図ることが可能な被処理物の表面処理方法を提供する。【解決手段】イオン性物質が溶解された機能水を高周波が印加された共振器を流通させて共振させ、その共振軸長の節またはその節に近似した箇所に被処理基板を配置し、この被処理基板の表面で水分子を振動させるとともに、前記イオン性物質をイオン化し、前記高周波の電界でそのイオンを移動させると共に拆力を発生することを特徴とする【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

イオン性物質が溶解された機能水を高周波が印加された共振器を流通させて共振させ、その共振軸長の節またはその節に近似した箇所に被処理基板を配置し、この被処理基板の表面で水分子を振動させるとともに、前記イオン性物質をイオン化し、前記高周波の電界でそのイオンを移動させると共に拆力を発生することを特徴とする被処理物の表面処理方法。

IPC (5件)：

H01L21/304 ,  B05B1/10 ,  B05B17/04 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10

FI (8件)：

H01L21/304 643Z ,  H01L21/304 643B ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 647Z ,  B05B1/10 ,  B05B17/04 ,  B08B3/08 A ,  B08B3/10 Z

Fターム (25件)：

2H088FA14 ,  2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA16 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB02 ,  3B201BB21 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB96 ,  4D074AA01 ,  4D074BB03 ,  4D074DD09 ,  4D074DD14 ,  4D074DD35 ,  4F033AA04 ,  4F033BA04 ,  4F033CA04 ,  4F033DA01 ,  4F033LA00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• マイクロ波励起の洗浄方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-296319   出願人：日本電気株式会社
• 高周波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-299589   出願人：高周波フィールド株式会社, 株式会社プレテック
• 上下可動式超音波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-391592   出願人：株式会社ジスパ