特許

J-GLOBAL ID：200903091074206817

磁気抵抗効果ヘッドの製造方法

発明者： 堀 昭男 ,  與田 博明 ,  大沢 裕一 ,  吉川 将寿 ,  佐橋 政司
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-061466
公開番号（公開出願番号）：特開平10-255233
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 シールド型GMRヘッドやヨーク型GMRヘッドにおいて、GMR膜の下地となる磁気シールド層や磁気ヨーク等の表面に必然的に凹凸が形成される場合であっても、下地表面の凹凸に起因するGMR膜の特性低下等を抑制する。【解決手段】 シールド型GMRヘッドにおいては、下側磁気シールド層23および下側磁気ギャップ膜24の少なくとも一方の表面に平滑化処理を施し、GMR膜の下地を平滑表面24aとする。また、ヨーク型GMRヘッドにおいては、平面型磁気ヨークの主表面に対して平滑化処理を施す。表面平滑化処理は、例えば低角度のイオンミリング処理、流動性材料を用いたエッチバック処理、SOG等の無機絶縁材料による平滑面形成処理等により実施する。

請求項（抜粋）：

下側磁気シールド層と、前記下側磁気シールド層上に下側磁気ギャップ膜を介して形成され、強磁性層と非磁性層との磁性多層膜を有する磁気抵抗効果素子部と、前記磁気抵抗効果素子部上に上側磁気ギャップ膜を介して形成された上側磁気シールド層とを具備する磁気抵抗効果ヘッドの製造方法において、前記下側磁気シールド層および下側磁気ギャップ膜の少なくとも一方の表面に処理を施して、前記表面を平滑化する工程を有することを特徴とする磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• MRヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-200664   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-283477
  
• 反転磁気抵抗ヘッド及び製作方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-042920   出願人：シーゲイトテクノロジーインターナショナル
• 特開平3-283477