特許
J-GLOBAL ID:200903091101573363

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-038017
公開番号(公開出願番号):特開平9-232213
出願日: 1996年02月26日
公開日(公表日): 1997年09月05日
要約:
【要約】【課題】 比較的簡単な構成で投影光学系の歪曲収差を補正できるようにする。【解決手段】 レチクルRに形成されたパターンをウエハW上に投影する投影光学系PLを構成する光学素子L3にヒーターH1,H2等の温度可変手段を設け、光学素子L3に所定の温度分布を与えて物理的に変形(L3’)させることで投影光学系PLの光学特性を修正し、歪曲収差を補正する。
請求項(抜粋):
レチクルを照明する照明系と、感光基板を保持する基板ステージと、前記レチクルのパターン像を前記感光基板上に形成する投影光学系とを含む投影露光装置において、前記投影光学系を構成する光学素子の温度を変化させる温度可変手段と、前記光学素子の温度分布を計測する温度計測手段と、前記温度計測手段によって計測された温度分布に基づいて前記温度可変手段を制御して前記光学素子に所定の温度分布を与えることにより前記投影光学系の収差を補正する温度分布制御手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 516 E ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A
引用特許:
審査官引用 (7件)
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