特許
J-GLOBAL ID:200903091371657003

TEMFIB試料およびその製造のための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-035289
公開番号(公開出願番号):特開2004-245841
出願日: 2004年02月12日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
【課題】 高品質、高解像度かつ詳細な再現を可能にするTEM試料を提供する。【解決手段】 固体材料のTEM FIB試料は、汚染および破壊されることなく、後続処理のステップのイオンビームを用いた試料表面の交互の側での打込みによって、非常に薄くされる。これによって、TEMを用いた高解像度の観察および試料材料の分析が可能となる。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
固体材料のTEM FIB試料であって、その表面(6a、b)への後続処理のステップで所望の厚みに調節され、前記厚みは<40nmである、TEM FIB試料。
IPC (2件):
G01N1/28 ,  G01N1/32
FI (3件):
G01N1/28 F ,  G01N1/32 B ,  G01N1/28 G
Fターム (7件):
2G052AA13 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052EC14 ,  2G052EC22 ,  2G052GA34 ,  2G052JA00
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
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