特許
J-GLOBAL ID:200903091390943890
フィルタ基板、及びこれを用いたカラーディスプレイ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-173273
公開番号(公開出願番号):特開2005-353426
出願日: 2004年06月11日
公開日(公表日): 2005年12月22日
要約:
【課題】 耐環境性に優れ、ディスプレイの発光素子に悪影響を与えず、さらに、電極の断線が生じにくく、信頼性が高いカラーフィルタや色変換フィルタなどのフィルタ基板、及びこれを用いたディスプレイを提供する。【解決手段】 透明支持基板11、パターン層13、アミノアルキルジアルコキシシラン、アミノアルキルトリアルコキシシラン、及びこれらの化合物を主成分とした複合体から選ばれたものを少なくとも原料とし、該原料の加水分解を主とする化学反応により得られた反応生成物からなる第1オーバーコート層15、及び第1透明無機薄膜層17が積層され、該第1透明無機薄膜層17面のRa(平均粗さ)が5nm以下、かつRmax(最大粗さ)が80nm以下であるフィルタ基板、並びに透明電極層、発光層、第2の電極層を順次積層してなるカラーディスプレイを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
透明支持基板と、該透明支持基板に、所望の画素パターンに形成して配置されてなるパターン層、第1オーバーコート層、及び第1透明無機薄膜層が順次積層されてなるフィルタ基板において、前記第1オーバーコート層の1部又は全部が、アミノアルキルジアルコキシシラン、アミノアルキルトリアルコキシシラン、及びこれらの化合物を主成分とした複合体から選ばれたものを少なくとも原料とし、該原料の加水分解を主とする化学反応により得られた反応生成物であり、前記第1透明無機薄膜層面のRa(平均粗さ)が5nm以下、かつRmax(最大粗さ)が80nm以下であることを特徴とするフィルタ基板。
IPC (6件):
H05B33/12
, B32B7/02
, B32B9/00
, G02B5/20
, H05B33/04
, H05B33/14
FI (6件):
H05B33/12 E
, B32B7/02 103
, B32B9/00 A
, G02B5/20 101
, H05B33/04
, H05B33/14 A
Fターム (40件):
2H048BA02
, 2H048BA42
, 2H048BB28
, 2H048BB37
, 2H048BB42
, 3K007AB13
, 3K007AB18
, 3K007BB00
, 3K007BB06
, 3K007DB03
, 3K007FA02
, 4F100AA01D
, 4F100AA01E
, 4F100AA12D
, 4F100AA16D
, 4F100AA18D
, 4F100AA19D
, 4F100AA20D
, 4F100AG00A
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK52C
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100BA10E
, 4F100DD07D
, 4F100GB41
, 4F100HB00B
, 4F100JA02A
, 4F100JD02D
, 4F100JL10B
, 4F100JM02D
, 4F100JM02E
, 4F100JN01A
, 4F100JN01D
, 4F100JN01E
, 4F100YY00A
, 4F100YY00D
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (9件)
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