特許
J-GLOBAL ID:200903091509883433
触媒、排ガス浄化触媒、及び触媒の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 栗原 彰
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-085350
公開番号(公開出願番号):特開2005-270738
出願日: 2004年03月23日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】貴金属粒子の凝集を抑え、少ない貴金属量で耐熱性に優れた排ガス浄化触媒及び触媒製造法を提供する。【解決手段】遷移金属と卑金属とを含む複合化合物と、この複合化合物と接触し、粒子径が1〜10[nm]である貴金属からなる触媒及び前記触媒を遷移金属と卑金属を逆ミセル内で同時に析出させる同時析出工程と逆ミセル内で貴金属を単独で析出させる単独析出工程を有する方法で製造する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
遷移金属と卑金属とを含む複合化合物と、
前記複合化合物と接触し、粒子径が1〜10[nm]である貴金属と、を有することを特徴とする触媒。
IPC (6件):
B01J23/89
, B01D53/94
, B01J37/03
, B01J37/16
, F01N3/10
, F01N3/28
FI (6件):
B01J23/89 A
, B01J37/03 B
, B01J37/16
, F01N3/10 A
, F01N3/28 301P
, B01D53/36 104A
Fターム (133件):
3G091AB03
, 3G091BA07
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA39
, 3G091GA06
, 3G091GA16
, 3G091GB01W
, 3G091GB06W
, 3G091GB07W
, 3G091GB10W
, 3G091GB10X
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB01
, 4D048AB02
, 4D048AB05
, 4D048BA01Y
, 4D048BA03X
, 4D048BA06Y
, 4D048BA07Y
, 4D048BA08X
, 4D048BA15Y
, 4D048BA16Y
, 4D048BA18X
, 4D048BA19X
, 4D048BA30X
, 4D048BA31Y
, 4D048BA32Y
, 4D048BA33Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA35Y
, 4D048BA36Y
, 4D048BA37X
, 4D048BA38Y
, 4D048BA42X
, 4D048BB02
, 4G069AA01
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC10A
, 4G069BC13A
, 4G069BC16A
, 4G069BC16B
, 4G069BC29A
, 4G069BC31A
, 4G069BC32A
, 4G069BC33A
, 4G069BC35A
, 4G069BC42A
, 4G069BC42B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC44A
, 4G069BC50A
, 4G069BC62A
, 4G069BC66A
, 4G069BC67A
, 4G069BC67B
, 4G069BC68A
, 4G069BC69A
, 4G069BC70A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069BC74A
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069BD05A
, 4G069CA03
, 4G069CA09
, 4G069EA19
, 4G069EB18X
, 4G069EB18Y
, 4G069EC24
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FB08
, 4G069FB09
, 4G069FB78
, 4G069FC08
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC10A
, 4G169BC13A
, 4G169BC16A
, 4G169BC16B
, 4G169BC29A
, 4G169BC31A
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC35A
, 4G169BC42A
, 4G169BC42B
, 4G169BC43A
, 4G169BC43B
, 4G169BC44A
, 4G169BC50A
, 4G169BC62A
, 4G169BC66A
, 4G169BC67A
, 4G169BC67B
, 4G169BC68A
, 4G169BC69A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD05A
, 4G169CA03
, 4G169CA09
, 4G169EA19
, 4G169EB18X
, 4G169EB18Y
, 4G169EC24
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB08
, 4G169FB09
, 4G169FB78
, 4G169FC08
引用特許:
出願人引用 (9件)
-
特開昭59-230639公報(第2頁)
-
特許第3251009号公報(第2頁)
-
ホルムアルデヒドの酸化除去方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-166299
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
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審査官引用 (7件)
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