特許
J-GLOBAL ID:200903091551152708
薄膜形成ポリマ-
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-117012
公開番号(公開出願番号):特開2000-026548
出願日: 1999年04月23日
公開日(公表日): 2000年01月25日
要約:
【要約】【課題】 種々の用途、特にフォトレジストに使用することのできる1,2-ジカルボン酸半エステル群族を有する薄膜形成性の機能性ポリマーを提供する。【解決手段】 酸不安定性で耐加水分解性ポリマー成分(A)と耐熱性ポリマー成分(B)を有する1,2-ジカルボン酸半エステル群族を有する機能性ポリマーを形成する。
請求項(抜粋):
以下の構造【化1】の1〜99モル%の分量の酸不安定性で耐加水分解性のポリマー成分(A)、以下の構造【化2】の99〜1モル%の分量の耐熱性ポリマー成分(B)[式中n=0、1、2又は3であり、R1は第3級炭素原子を介して酸素原子に結合されている合わせて4〜10個の炭素原子を有する炭化水素基又は2-テトラヒドロフラニル基又は2-テトラヒドロピラニル基であり、R2、R3及びR4は-互いに独立して-C1〜C6-アルキル又はC1〜C6-アルコキシ、C6〜C18-アリール又はC6〜C18-アリールオキシ又はC6〜C18-アリール基及びC1〜C4-アルキレン基を有するアラルキルであり、R5はH又はC1〜C6-アルキルであり、XはSi又はSnであり、YはO又はNHである]を有することを特徴とする1,2-ジカルボン酸半エステル群族を有する薄膜形成性機能性ポリマー。
IPC (4件):
C08F222/16
, C08F230/04
, C08F232/08
, G03F 7/033
FI (4件):
C08F222/16
, C08F230/04
, C08F232/08
, G03F 7/033
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平3-075751
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特開平2-282746
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特開昭62-172342
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フオトレジスト
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-353047
出願人:シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
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コポリマー及びその製法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-353046
出願人:シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
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