特許
J-GLOBAL ID:200903091579640198

薬液処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小山 有 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-149733
公開番号(公開出願番号):特開平11-154641
出願日: 1998年05月29日
公開日(公表日): 1999年06月08日
要約:
【要約】【課題】 塗布後にノズルに残る塗布液のボタ落ちをなくす。【解決手段】 現像液を塗布する場合には、例えば、循環経路30内を500〜700ml/minの流量で循環させて、スリット状吐出口4aから現像液が流下しない状態から、バルブ33を閉じるか絞ることにより、またはポンプ35により流量を1500〜3000ml/minに上げると、スリット状吐出口4aから現像液がカーテン状になってガラス基板W上の略全面に亘って塗布される。
請求項(抜粋):
板状被処理物表面に所定幅で塗布液を塗布するノズルを備えた塗布装置において、前記ノズルは塗布液の循環経路の途中に設けられていることを特徴とする薬液処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502
FI (5件):
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る