特許
J-GLOBAL ID：200903091747774235

電子放出源の製造方法

発明者：
余谷 純子

余谷 純子 について

, 
上村 佐四郎

上村 佐四郎 について

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倉知 宏行

倉知 宏行 について


出願人/特許権者：
株式会社ノリタケカンパニーリミテド

株式会社ノリタケカンパニーリミテド について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-110299
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319211
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：
【課題】安定したエミッションを得ることができる電子放出源の製造方法を提供する。【解決手段】電着法、熱CVD法またはスプレー法により被膜7を形成した後、この被膜にレーザを照射する。このレーザ照射により、被膜7を構成するカーボンナノチューブが切断され、カーボンナノチューブの密度が最適化される。このように被膜7を形成することにより、カソード構体5から安定したエミッションを得ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板にカールしたナノチューブ状繊維からなる被膜を配置する工程と、 前記基板の前記被膜が設けられた側の面を、この面に対して垂直方向から前記被膜を走査してレーザを照射する工程と を含むことを特徴とする電子放出源の製造方法。
IPC (3件)：
H01J9/02 ,  C01B31/02 ,  C23C16/26
FI (3件)：
H01J9/02 B ,  C01B31/02 101F ,  C23C16/26
Fターム (28件)：
4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD29 ,  4G146BA08 ,  4G146BA48 ,  4G146BB15 ,  4G146BC03 ,  4G146BC09 ,  4G146BC10 ,  4G146BC25 ,  4G146BC33B ,  4G146CB08 ,  4G146CB16 ,  4G146CB17 ,  4G146DA16 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030JA11 ,  4K030LA11 ,  5C127BB07 ,  5C127DD12 ,  5C127DD14 ,  5C127DD26 ,  5C127DD45 ,  5C127DD85
引用特許：
審査官引用 (3件)

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